名稱/化學式：三氟化氮/NF3
包裝規格：44L、17L
純度(%)及雜質(ppm)：99.99%
產品詳情：
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氣體標識
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名稱：nitrogen trifluoride 分子式：NF3
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氣體物化特性
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分子量
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熔點
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沸點
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臨界溫度
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臨界壓力
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液體密度
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氣體密度
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CAS號
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71.01
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-206.8℃(1atm)
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-129℃(1atm)
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-39.3℃
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44.02atm(4.46MPa)
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1554kg/m3(1atm沸點時)
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2.95kg/m3(1atm 21℃）
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7783-54-2
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包裝 ( Cylinder（47L）、Bundle(16×47L)、Bundle(25×47L)、 Y-Cylinder(470L)、 ISO等)
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鋼瓶容積
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鋼瓶型號
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閥門
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鋼瓶壓力
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氣體質量
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危規號
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UN編號
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包裝分類
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包裝標志
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47L、43.3L、40L、8L
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DOT-3AA、GB5099
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CGA330、CGA640
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9.0-13.0MPa
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22kg、20kg、3.4kg
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23016
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2451
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Ⅱ
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6
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儲存及運輸
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三氟化氮氣瓶應儲存于陰涼、通風倉庫內。三氟化氮氣瓶應遠離火種、熱源、防止陽光直射，與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。
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三氟化氮氣瓶在搬運時要輕裝、輕卸，防止鋼瓶及附件破損。
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三氟化氮氣瓶的運輸按危險品運輸。運輸時用氣瓶固定架將三氟化氮氣瓶固定好，用汽車公路運輸或用輪船集裝箱運輸。
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泄漏應急處理
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如遇有三氟化氮氣體泄露，工作人員要馬上撤離泄漏污染區，并盡可能采取措施阻止三氟化氮氣體的進一步泄露。如有工作人員中毒，應立即送往醫院救治。
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泄露現場要盡快處理，處理泄露現場的工作人員必須配戴必要的防毒面具，最好是自給正壓式呼吸器。泄露現場經檢測無危害氣體后方可進入工作人員，泄露容器必須經仔細檢查、維修或妥善處理好后方可繼續使用。
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三氟化氮氣體產品質量標準（QJ58-2007）
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雜質
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NF3≥99.995% Vol.%
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NF3≥99.99% Vol.%
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NF3≥99.98% Vol.%
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NF3≥99.9% Vol.%
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CF4
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≤20 Vol.ppm
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≤40 Vol.ppm
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≤100 Vol.ppm
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≤500 Vol.ppm
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N2
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≤5 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤50 Vol.ppm
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O2+Ar
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≤3 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤50 Vol.ppm
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CO2
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≤1 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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H2O
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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酸份（以HF計）
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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SF6
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≤1 Vol.ppm
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≤2 Vol.ppm
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≤2 Vol.ppm
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≤25 Vol.ppm
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N2O
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≤1 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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CO
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≤0.5 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
主要用途：用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源,在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所 HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術,它的需求量將日益增加。
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